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【发明授权】摄像装置_苏州佳世达电通有限公司;佳世达科技股份有限公司_201910766913.7 

申请/专利权人:苏州佳世达电通有限公司;佳世达科技股份有限公司

申请日:2019-08-20

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN110581939B

主分类号:H04N5/225(20060101)

分类号:H04N5/225(20060101);G02B5/20(20060101);G02B1/11(20150101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.06.08#授权;2020.01.10#实质审查的生效;2019.12.17#公开

摘要:本发明提供一种摄像装置,包含:壳体,该壳体具有入光口;影像感测单元,设置于该壳体内;光学单元,设置于该壳体内且位于该入光口与该影像感测单元之间,光线由该入光口进入该壳体内并经由该光学单元成像于该影像感测单元;以及中性密度滤光组件,设置于该入光口与该光学单元之间,该中性密度滤光组件包括第一中性密度滤光层以及第二中性密度滤光层,该第一中性密度滤光层以及该第二中性密度滤光层沿着该光线的传输方向排列。本发明的摄像装置使用两层以上的中性密度滤光层以防止影像中局部光线过于密集。

主权项:1.一种摄像装置,其特征在于,包含:壳体,该壳体具有入光口;影像感测单元,设置于该壳体内;光学单元,设置于该入光口与该影像感测单元之间,光线由该入光口进入该壳体内并经由该光学单元成像于该影像感测单元;以及中性密度滤光组件,设置于该入光口与该光学单元之间,该中性密度滤光组件包括第一中性密度滤光层以及第二中性密度滤光层,该第一中性密度滤光层以及该第二中性密度滤光层沿着该光线的传输方向排列;该第二中性密度滤光层的光穿透率大于该第一中性密度滤光层的光穿透率;该中性密度滤光组件具有第一基板,该第一基板具有朝向该光学单元的第一面以及背向该第一面的第二面,该第一中性密度滤光层以及该第二中性密度滤光层分别设置于该第一基板的该第一面以及该第二面。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州佳世达电通有限公司;佳世达科技股份有限公司 摄像装置

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