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【实用新型】化学气相沉积反应腔_苏州雨竹机电有限公司_202022421453.5 

申请/专利权人:苏州雨竹机电有限公司

申请日:2020-10-27

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN213388891U

主分类号:C23C16/46(20060101)

分类号:C23C16/46(20060101);C23C16/458(20060101);C23C16/44(20060101)

优先权:["20200706 TW 109122782"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.06.08#授权

摘要:本实用新型所提供的化学气相沉积反应腔,为一种面下型FaceDown反应腔,能使基板晶圆以反应面朝下的方式与反应气体进行接触,让粉尘因为重力关往下沉降而不容易附着于基板的反应面,以改善因粉尘飘散而造成的良率损失问题。其次,而为了达到高产能力,本实用新型在化学气相沉积反应腔之中设置便于自动化生产作业的基板承载装置,以使基板的放置、收取更为便捷,进而达到高产量能力的效果。再者,基板承载装置还能导入气浮气体,以使基板悬浮与旋转,让基板的受热效果更为均匀与精确,进而改善基板成膜效果更不均的问题。

主权项:1.一种化学气相沉积反应腔,其特征在于,包含:一腔体;一上加热模块,设置在该腔体内的上部;一基板承载装置,设置在该腔体内对应于该上加热模块下方的位置,用于承载至少一基板并包含至少一碟盘、一下大盘以及一上大盘,该碟盘具有一上方开放的基板槽以供该基板以反应面朝下的方式置入,该基板槽下方设有一反应口以供该基板的反应面裸露,该下大盘具有至少一个上方开放的碟盘槽以供该碟盘置入,该碟盘槽下方设有一底口以供该反应面裸露,该上大盘遮盖于该下大盘的上方并将该碟盘槽上方封闭,该上大盘的半径大于该下大盘;一升降筒暨废气收集环,连接于该下大盘以支撑并带动该基板承载装置升降及旋转,并收集反应后的废气;一喷头,设置在该腔体内以释出反应气体;以及一止挡单元,设置在该腔体内壁,使得该上大盘的边沿于该升降筒暨废气收集环下降至预设高度时被该止挡单元拦阻而分离于该下大盘,待该升降筒暨废气收集环下降至最低位置时,该碟盘槽的上方以及该基板槽的上方呈现裸露状态;该腔体的侧壁设有至少一取放口,该升降筒暨废气收集环上升至最高位置时遮蔽该取放口,该升降筒暨废气收集环下降至最低位置时开放该取放口。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州雨竹机电有限公司 化学气相沉积反应腔

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