申请/专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司

申请日：2019-12-31

公开（公告）日：2021-07-16

公开（公告）号：CN113118951A

主分类号：B24B29/02(20060101)

分类号：B24B29/02(20060101);B24B55/06(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态：2023.05.16#发明专利申请公布后的视为撤回;2021.10.15#实质审查的生效;2021.07.16#公开

摘要：一种用于晶圆制造中后清洗的空化射流喷嘴，包括喷嘴主体，喷嘴主体中设有进水腔、谐振腔、出水腔和分岔通道；所述谐振腔位于进水腔和出水腔之间，两端分别与进水腔和出水腔连通；所述进水腔和出水腔为圆台形空腔，圆台较小的底面均与谐振腔连通；所述出水腔侧壁与至少一个分岔通道连通；所述分岔通道将所述出水腔与外部气源连通。

主权项：1.一种空化射流喷嘴，包括喷嘴主体，喷嘴主体中设有进水腔、谐振腔、出水腔和分岔通道；所述谐振腔位于进水腔和出水腔之间，两端分别与进水腔和出水腔连通；所述进水腔和出水腔为圆台形空腔，圆台较小的底面均与谐振腔连通；所述出水腔侧壁与至少一个分岔通道连通；所述分岔通道将所述出水腔与外部气源连通。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 清华大学;华海清科股份有限公司 一种空化射流喷嘴及具有该喷嘴的晶圆处理装置

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