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【发明公布】一种面阵工业CT散射校正方法_中国兵器科学研究院宁波分院_202110402105.X 

申请/专利权人:中国兵器科学研究院宁波分院

申请日:2021-04-14

公开(公告)日:2021-07-16

公开(公告)号:CN113125476A

主分类号:G01N23/046(20180101)

分类号:G01N23/046(20180101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.11.22#授权;2021.08.03#实质审查的生效;2021.07.16#公开

摘要:本发明涉及一种面阵工业CT散射校正方法,步骤1、使用X射线机对被检测样品进行周向DR扫描,获得I幅第一周向DR图像,并对其进行射束硬化校正,得到I幅第一图像;步骤2、在X射线机出束窗口前放置一块衰减板;并采用与步骤1中相同的扫描工艺对被检测样品进行周向DR扫描,获得I幅第二周向DR图像,并对其进行射束硬化校正,得到I幅第二图像;步骤3、将相同扫描角度的第一图像和第二图像进行散射校正,得到散射校正后的DR数据;步骤4、采用散射校正后的DR数据进行锥束CT重建,得到散射校正后的CT图像。该方法操作简便、衰减板加工要求低、算法步骤少、易于实现,大幅降低了后续工业CT重建后图像的散射伪像。

主权项:1.一种面阵工业CT散射校正方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤1、使用X射线机对被检测样品进行周向DR扫描,获得I幅被检测样品的第一周向DR图像,并对I幅被检测样品的第一周向DR图像进行射束硬化校正,得到I幅第一图像;其中,将第i幅第一图像中像素点为x,y的像素值记为Aix,y,i=1、2...I;步骤2、在X射线机出束窗口前放置一块厚度为S的衰减板,该衰减板采用的材料对应在该X射线能谱下的衰减系数为μS,μS和S之间满足以下关系: 并采用与步骤1中相同的扫描工艺对被检测样品进行周向DR扫描,获得I幅被检测样品的第二周向DR图像,并对I幅被检测样品的第二周向DR图像进行射束硬化校正,得到I幅第二图像,其中,将第i幅第二图像中像素点为x,y的像素值记为Bix,y,i=1、2...I;Bix,y和Aix,y的扫描角度相同;步骤3、将相同扫描角度的第一图像Aix,y和第二图像Bix,y进行散射校正,得到散射校正后的DR数据Cix,y;其中, 步骤4、采用散射校正后的DR数据Cix,y进行CT重建,得到散射校正后的CT图像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国兵器科学研究院宁波分院 一种面阵工业CT散射校正方法

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