申请/专利权人：深圳市予泽科技有限公司

申请日：2021-05-18

公开（公告）日：2021-07-16

公开（公告）号：CN113119456A

主分类号：B29C64/124(20170101)

分类号：B29C64/124(20170101);B29C64/20(20170101);B29C64/245(20170101);B33Y30/00(20150101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.08.03#实质审查的生效;2021.07.16#公开

摘要：本申请是关于一种光固化打印机的承托结构、光固化打印机及打印方法。所述承托结构包括：承托面、缓冲装置；所述承托面承托离型膜，所述缓冲装置承托所述承托面并缓冲成型物引起的排液压力。本申请提供的方案，能够缓冲成型台和成型物向下运动时产生的压力，避免成型物发生断层、离型膜破损和承托面破坏。

主权项：1.一种光固化打印机的承托结构，其特征在于，包括：承托面、缓冲装置；所述承托面承托离型膜，所述缓冲装置承托所述承托面并缓冲成型物引起的排液压力。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市予泽科技有限公司 光固化打印机的承托结构、光固化打印机及打印方法

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