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【发明授权】测试结构、失效分析定位方法及失效分析方法_上海华力微电子有限公司_201911183955.4 

申请/专利权人:上海华力微电子有限公司

申请日:2019-11-27

公开(公告)日:2021-07-16

公开(公告)号:CN110838479B

主分类号:H01L23/544(20060101)

分类号:H01L23/544(20060101);H01L21/66(20060101);G01R31/26(20140101);G01R31/265(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.07.16#授权;2020.03.20#实质审查的生效;2020.02.25#公开

摘要:本发明提供了一种测试结构,包括蛇形金属线和两个相对交错设置的测试梳状结构,每个测试梳状结构分成至少两个子梳状结构,且每个所述测试梳状结构中的相邻两个所述子梳状结构之间具有间隔,且每个所述测试梳状结构中的至少一个所述间隔处的所述蛇形金属线的至少一个拐弯部位上引出有焊盘。即通过上述方法将所述测试结构分成了若干个小面积的测试结构,能够解决EBIRCH不能定位到超大面积结构nA级别漏电的短路点的问题;同时结合电阻比例法,以使得EBIRCH能轻易定位到超大面积结构nA级别漏电的短路点,从而找到失效的根本原因,对解决工艺问题以及促进研发进度能有很大的帮助。

主权项:1.一种测试结构,其特征在于,包括蛇形金属线和两个相对交错设置的测试梳状结构,每个所述测试梳状结构包括并排设置的至少两个子梳状结构,每个所述子梳状结构包括若干相互平行的指型结构和将各所述指型结构的同侧一端连接在一起的柄部,且每个所述测试梳状结构中的所有子梳状结构的柄部采用引线连接在一起,所述蛇形金属线位于相互穿插的指型结构之间并与所有的指型结构处于同一平面且互不接触,每个所述测试梳状结构中的相邻两个所述子梳状结构之间具有间隔,且每个所述测试梳状结构中的至少一个所述间隔处的所述蛇形金属线的至少一个拐弯部位上引出有焊盘,每两个相对设置且相互穿插的子梳状结构与设置在这两个子梳状结构所在区域中的蛇形金属线构成了小面积蛇形梳状结构,且所述小面积蛇形梳状结构的面积S<1×105um2。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海华力微电子有限公司 测试结构、失效分析定位方法及失效分析方法

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