申请/专利权人:应用材料公司
申请日:2019-12-17
公开(公告)日:2021-07-23
公开(公告)号:CN113168021A
主分类号:G02B27/44(20060101)
分类号:G02B27/44(20060101);G02B6/122(20060101);G02B6/12(20060101)
优先权:["20181217 US 62/780,802"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.07.11#授权;2021.12.21#实质审查的生效;2021.07.23#公开
摘要:本申请的实施方式大致关于用于形成多个光栅的方法。该方法大致包括在设置于基板上的波导组合器的一个或多个保护的区域上沉积材料,该材料具有当离子束引导朝向基板时抑制设置于波导组合器上的光栅材料移除的厚度;及将离子束引导朝向基板。本文所公开的方法允许在一个或多个未受保护的区域中形成多个光栅,同时在保护的区域中不会形成光栅。
主权项:1.一种形成第一多个光栅的方法,包含以下步骤:在设置于基板上的波导组合器的一个或多个第一区域上沉积保护材料,所述保护材料具有第一厚度,使得当离子束引导朝向所述基板时,所述保护材料至少部分地抑制设置于所述波导组合器上的光栅材料移除;及将所述离子束引导朝向所述基板,使得来自所述波导组合器的所述一个或多个第一区域的所述光栅材料的至少一部分被移除,从而形成所述第一多个光栅,其中所述第一多个光栅的至少一个光栅具有约5°至约85°的角度。
全文数据:
权利要求:
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。