申请/专利权人：EQ泰科普勒斯株式会社

申请日：2021-01-13

公开（公告）日：2021-07-23

公开（公告）号：CN113151805A

主分类号：C23C16/455(20060101)

分类号：C23C16/455(20060101)

优先权：["20200122 KR 10-2020-0008879"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.09#授权;2021.08.10#实质审查的生效;2021.07.23#公开

摘要：本发明涉及一种薄膜形成装置以及用于形成薄膜的自由基单元，根据一实施例的薄膜形成装置包括：腔室；多个气体流入部，在腔室的上部形成，接收用于自由基反应的至少两种反应气体和前体；以及自由基单元，通过使从气体流入部供给的反应气体产生反应来生成自由基，通过向下部喷射自由基和前体来在基板沉积薄膜，自由基单元由多个板形成，前体喷射路径被配置为在多个板中的顶部板中，通过比气体流入部的前体喷射路径多的多个路径分配前体后使前体从自由基单元喷射，反应气体喷射路径与前体喷射路径互不重叠。

主权项：1.一种薄膜形成装置，其特征在于，包括：腔室；多个气体流入部，在上述腔室的上部形成，接收用于自由基反应的至少两种反应气体和前体；以及自由基单元，通过使从上述气体流入部供给的反应气体产生反应来生成自由基，通过向下部喷射上述自由基和前体来在基板沉积薄膜，其中，上述自由基单元由多个板形成，前体喷射路径被配置为在多个上述板中的顶部板中，通过比上述气体流入部的前体喷射路径多的多个路径分配前体后使前体从自由基单元喷射，反应气体喷射路径与上述前体喷射路径互不重叠。

全文数据：

权利要求：

百度查询： EQ泰科普勒斯株式会社 薄膜形成装置以及用于形成薄膜的自由基单元

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