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【发明授权】抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法_住友化学株式会社_201610200291.8 

申请/专利权人:住友化学株式会社

申请日:2016-03-31

公开(公告)日:2021-07-23

公开(公告)号:CN106019833B

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);G03F7/00(20060101)

优先权:["20150331 JP 2015-073001"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.07.23#授权;2018.02.06#实质审查的生效;2016.10.12#公开

摘要:本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间PED所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物,含有:含式I表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶剂。[式I中,Ri51表示氢原子或甲基。Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1~12的烃基。Ri54表示碳原子数5~20的脂环式烃基。Ri55表示碳原子数1~6的烷基或碳原子数1~6的烷氧基。p表示0~4的整数。p为2以上时,多个Ri55可彼此相同或不同。]。

主权项:1.一种抗蚀剂组合物,其含有:含式I表示的结构单元的树脂A1,含有不具有对酸不稳定基团的结构单元、不含具有对酸不稳定基团的结构单元的碱溶性树脂A2,不同于所述树脂A1和所述树脂A2的、仅含有不具有对酸不稳定基团的结构单元的碱不溶性树脂A3,产酸剂和溶剂; 式I中,Ri51表示氢原子或甲基;Ri52和Ri53各自独立地表示氢原子或碳原子数1~12的烃基;Ri54表示碳原子数5~20的脂环式烃基;Ri55表示碳原子数1~6的烷基或碳原子数1~6的烷氧基;p表示0~4的整数;p为2以上时,多个Ri55可彼此相同或不同。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 住友化学株式会社 抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法

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