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【发明公布】抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202080012809.X 

申请/专利权人:三星SDI株式会社

申请日:2020-03-23

公开(公告)日:2021-09-14

公开(公告)号:CN113396364A

主分类号:G03F7/11(20060101)

分类号:G03F7/11(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/26(20060101);G03F7/16(20060101)

优先权:["20190329 KR 10-2019-0037030"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.10.01#实质审查的生效;2021.09.14#公开

摘要:本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例,所述抗蚀剂底层组成物包含:聚合物,包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元;以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。

主权项:1.一种抗蚀剂底层组成物,包含聚合物,包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元;以及溶剂:[化学式1] [化学式2] [化学式3] 其中,在化学式1至化学式3中,L1至L7独立地为单键、经取代或未经取代的C1至C30亚烷基、经取代或未经取代的C6至C30亚芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂亚烷基、经取代或未经取代的C3至C20亚环烷基、经取代或未经取代的C2至C20杂亚环烷基、经取代或未经取代的C1至C30杂亚烯基、经取代或未经取代的C2至C30杂亚芳基、经取代或未经取代的C1至C30亚烯基、经取代或未经取代的C1至C30亚炔基或其组合,A、B、C及D独立地为O、S、SO2、CO、COO、NRa或CONRb,B、C及D中的至少一者为S,n1、n2、n3及n4独立地为0至3的一个整数,其限制条件是n2、n3及n4中的至少一者为1或大于1的整数,Ra、Rb及R1至R3独立地为氢、氘、羟基、硫醇基、卤素、羧基、乙酰基、胺基、氰基、硝基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C10烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30酰基或其组合,且*为连接点。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星SDI株式会社 抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法

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