申请/专利权人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日:2021-06-21
公开(公告)日:2021-09-17
公开(公告)号:CN113406831A
主分类号:G02F1/1362(20060101)
分类号:G02F1/1362(20060101);H01L27/12(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2022.11.01#授权;2021.10.08#实质审查的生效;2021.09.17#公开
摘要:本申请提供一种阵列基板及显示面板;该阵列基板包括衬底基板、设置于衬底基板上的第一金属层、设置于第一金属层上的第一绝缘层、设置于第一绝缘层上的第二金属层、设置于第二金属层上的第二绝缘层、设置于第二绝缘层上的像素电极层,该阵列基板还包括公共走线和分压走线,公共走线和分压走线由第一金属层或第二金属层图案化形成,公共走线在衬底基板上的正投影与分压走线在衬底基板上的正投影无重合。本申请通过将公共走线在衬底基板上的正投影与分压走线在衬底基板上的正投影设置为无重合,使得公共走线与分压走线沿阵列基板厚度方向彼此错开,降低了公共走线与分压走线之间发生短路的风险,提高了显示面板的品质。
主权项:1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;第一金属层,设置于所述衬底基板上;第一绝缘层,设置于所述第一金属层上;第二金属层,设置于所述第一绝缘层上;第二绝缘层,设置于所述第二金属层上;像素电极层,设置于所述第二绝缘层上,所述像素电极层包括像素电极;所述阵列基板还包括多条公共走线和多条分压走线,所述公共走线由所述第一金属层或所述第二金属层图案化形成,所述分压走线由所述第一金属层或所述第二金属层图案化形成,所述公共走线在所述衬底基板上的正投影与所述分压走线在所述衬底基板上的正投影无重合。
全文数据:
权利要求:
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