申请/专利权人：浙江东开半导体科技有限公司

申请日：2020-12-01

公开（公告）日：2021-09-17

公开（公告）号：CN214222748U

主分类号：F17D1/02(20060101)

分类号：F17D1/02(20060101);F17D3/01(20060101);F16L55/02(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.09.17#授权

摘要：本实用新型公开了一种大宗特殊气体供应系统及其输送管道，涉及气体供应技术领域，包括供应管道和缓冲管道，所述供应管道一端用于与气体供应设备连接，供应管道的另一端用于连接气体分配设备，所述缓冲管道位于供应管道的两端之间，且缓冲管道靠近供应管道用于连接气体分配设备的一端，所述缓冲管道的直径大于供应管道的直径。提高供应管道的流体补充能力，可在生产设备大量使用特殊气体的瞬间，为气体供应设备到气体分配设备之间的供应管道的流体补充赢得时间，保证供应管道压力的稳定。

主权项：1.一种大宗特殊气体输送管道，其特征在于，包括供应管道和缓冲管道，所述供应管道一端用于与气体供应设备连接，供应管道的另一端用于连接气体分配设备，所述缓冲管道位于供应管道的两端之间，且缓冲管道靠近供应管道用于连接气体分配设备的一端，所述缓冲管道的直径大于供应管道的直径。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江东开半导体科技有限公司 大宗特殊气体供应系统及其输送管道

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