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【发明公布】一种半导体光敏感复合材料及其制备方法以及应用_海南聚能科技创新研究院有限公司_202110577465.3 

申请/专利权人:海南聚能科技创新研究院有限公司

申请日:2021-05-26

公开(公告)日:2021-09-21

公开(公告)号:CN113421933A

主分类号:H01L31/0264(20060101)

分类号:H01L31/0264(20060101);H01L31/0296(20060101);H01L31/0328(20060101);H01L31/0216(20140101)

优先权:

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态:2023.10.27#发明专利申请公布后的驳回;2021.10.12#实质审查的生效;2021.09.21#公开

摘要:本发明提供了一种半导体复合材料,包括TiN纳米管阵列基底以及复合于所述基底表面的C3N4‑CdS复合材料层。本发明向TiO2上掺杂C3N4和CdS,从而加强其光催化的能力。通过测样发现TiN‑C3N4‑CdS的半导体复合材料,比传统的TiO2材料的光电响应提高了5倍以上。

主权项:1.一种半导体复合材料,其特征在于,包括TiN纳米管阵列基底以及复合于所述基底表面的C3N4-CdS复合材料层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 海南聚能科技创新研究院有限公司 一种半导体光敏感复合材料及其制备方法以及应用

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