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【发明授权】三维测定装置、三维测定方法以及三维测定存储介质_欧姆龙株式会社_201980007537.1 

申请/专利权人:欧姆龙株式会社

申请日:2019-01-31

公开(公告)日:2021-09-21

公开(公告)号:CN111566439B

主分类号:G01B11/25(20060101)

分类号:G01B11/25(20060101);G01B11/24(20060101);G06T7/521(20060101)

优先权:["20180207 JP 2018-019998"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.09.21#授权;2020.09.15#实质审查的生效;2020.08.21#公开

摘要:本发明提供一种三维测定装置、三维测定方法以及三维测定存储介质,可缩短摄像部的曝光时间,而缩短为了对测定对象物的三维形状进行测定所需要的时间。三维测定装置包括:投影部,向测定对象物投影图案光;摄像部,以规定的曝光时间来拍摄经投影图案光的测定对象物的图像;计算部,基于图像所含的多个特征点,计算表示测定对象物的三维形状的、三维点群的位置;以及决定部,以多个特征点的个数及三维点群的个数的至少一者成为基于任一者的最大值所规定的阈值以上,且曝光时间较针对最大值的曝光时间更短的方式,来决定曝光时间。

主权项:1.一种三维测定装置,其特征在于,包括:投影部,向测定对象物投影图案光;摄像部,以规定的曝光时间来拍摄经投影所述图案光的所述测定对象物的图像;计算部,提取所述图像所含的多个特征点,基于所述多个特征点来计算表示所述测定对象物的三维形状的、三维点群的位置;以及决定部,以所述多个特征点的个数及所述三维点群所含的点的个数的至少一者成为基于所述多个特征点的个数及所述三维点群所含的点的个数的任一者的最大值所规定的阈值以上,且所述曝光时间较针对所述最大值的曝光时间更短的方式,来决定所述曝光时间。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 欧姆龙株式会社 三维测定装置、三维测定方法以及三维测定存储介质

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