申请/专利权人:福建兆元光电有限公司
申请日:2021-02-24
公开(公告)日:2021-09-21
公开(公告)号:CN214254447U
主分类号:H01L33/06(20100101)
分类号:H01L33/06(20100101);H01L33/14(20100101);H01L33/12(20100101);H01L33/32(20100101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.09.21#授权
摘要:本实用新型提供了一种LED芯片的外延结构,包括衬底层、N型氮化镓层、量子阱层、含铟的隔离层及P型氮化镓层;所述N型氮化镓层、所述量子阱层、所述隔离层及所述P型氮化镓层由靠近所述衬底层至远离所述衬底层的方向依次排布;本实用新型在量子阱层和P型氮化镓层之间加入含铟的隔离层,铟能够发挥类似表面活性剂的作用,增加材料在生长过程中的表面迁移能力,使得其下已生长完成的量子阱层中可能已经产生的V型坑得到填充从而变小甚至填平,使得V型坑的数量减小及降低V型坑的深度,从而降低了V型坑带来的量子阱层电阻值下降及错位穿透的影响,提升了LED芯片的正向抗静电能力。
主权项:1.一种LED芯片的外延结构,其特征在于,包括衬底层、N型氮化镓层、量子阱层、含铟的隔离层及P型氮化镓层;所述N型氮化镓层、所述量子阱层、所述隔离层及所述P型氮化镓层由靠近所述衬底层至远离所述衬底层的方向依次排布。
全文数据:
权利要求:
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