申请/专利权人:亚电科技南京有限公司
申请日:2021-03-04
公开(公告)日:2021-09-21
公开(公告)号:CN214254367U
主分类号:H01L21/67(20060101)
分类号:H01L21/67(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.09.21#授权
摘要:本申请涉及一种单片晶圆清洗装置清洗盘结构,晶圆朝上由清洗液喷管喷出清洗液进行清洗,再由清水喷管喷出清水,以去除晶圆上的清洗剂残留,使用清洗液喷管和清水喷管时,通过旋转清洗液喷管和清水喷管使之对应到达晶圆上方,无须使用则将清洗液喷管和清水喷管移走以防止干扰,清洗液喷管为并列的若干根可喷出不同类型的清洗液,实现一机多用。同时,加热后的氮气从转轴中间的通道经过空腔从通孔喷出,在加热晶圆的同时,在晶圆底部形成气流防止清洗液流入晶圆底面。
主权项:1.一种单片晶圆清洗装置清洗盘结构,其特征在于,包括:支撑盘2,能够旋转,用于支撑固定晶圆,所述支撑盘2底部与转轴25连接,转轴25能够转动,进而使支撑盘2发生转动,所述支撑盘2中间具有空腔24,所述转轴25中间为通道,所述通道能够通入加热后的氮气,所述支撑盘2的盘面上具有若干晶圆支撑柱21,所述支撑盘2的盘面上还开设有通孔22,加热后的氮气或者惰性气体从转轴25中间的通道经过空腔24从通孔22喷出,以加热晶圆并在晶圆底部形成气流防止清洗液流入晶圆底面;清洗液喷管3,能够旋转使喷口位于晶圆上方或者位于清洗液喷溢流口上方,所述清洗液喷管3为并列的若干根;清水喷管4,能够旋转使喷口位于晶圆上方或者位于清水溢流口41上方,所述清水喷管4喷出清水;挡板6,设置于所述支撑盘2外围,能够升起或者下降,升起时用于阻挡从晶圆四周散开的清洗液或者清水。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 亚电科技南京有限公司 单片晶圆清洗装置清洗盘结构
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