申请/专利权人：株式会社日立高新技术

申请日：2020-02-03

公开（公告）日：2021-10-12

公开（公告）号：CN113498546A

主分类号：H01L21/3065(20060101)

分类号：H01L21/3065(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.10.29#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要：等离子处理装置具备：在内部具备载置被处理基板的电极的等离子处理室；对等离子处理室提供等离子产生用的电力的电力提供部；和控制从该电力提供部对等离子处理室提供的电力的控制部，控制部执行：保温放电，在未将被处理基板载置于处理室的内部的电极的状态下，在第1条件下控制电力提供部，来使等离子处理室的内部产生第1等离子，以将等离子处理室的内壁面加热到第1温度；急速温度调节放电，接下来在第2条件下控制电力提供部，来使等离子处理室的内部产生第2等离子，以将等离子处理室的内壁面加热到比第1温度高的第2温度；和产品处理，在将被处理基板载置于电极的状态下，在第3条件下控制电力提供部来使等离子处理室的内部产生第3等离子，以对被处理基板进行处理。

主权项：1.一种等离子处理装置，其特征在于，具备：处理室，其对样品进行等离子处理；高频电源，其提供用于生成等离子的高频电力；和控制装置，其执行控制，在该控制中进行第一处理，该第一处理在作为单个所述样品的等离子处理或多个所述样品的等离子处理的批次处理与批次处理之间的空闲的期间，使用由被脉冲调制的所述高频电力生成的等离子来使所述处理室的内壁的温度成为所期望的温度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社日立高新技术 等离子处理装置以及等离子处理方法

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