申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2021-03-26

公开（公告）日：2021-10-12

公开（公告）号：CN113492072A

主分类号：B05B13/02(20060101)

分类号：B05B13/02(20060101);B05B15/55(20180101);H01L21/027(20060101)

优先权：["20200403 JP 2020-067836"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.01.20#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要：本公开涉及一种液处理装置的运转方法和液处理装置，在使向基板供给处理液来对基板进行处理的液处理装置运转时，可靠且迅速地进行构成装置的流路系统的清洗。实施以下工序：处理工序，利用设置于包括供给路径的流路系统的泵使处理液从处理液供给源向设置有过滤器的所述供给路径的下游侧流通，使处理液从形成所述供给路径的下游端的供给部供给到基板来对该基板进行处理；清洗工序，向所述流路系统供给清洗液来清洗该流路系统；以及供给路径清洗工序，包括在所述清洗工序中，在所述供给路径中的流体的压力损失比所述处理工序中的该压力损失低的清洗用状态下从该供给路径的上游侧向下游侧供给所述清洗液，来清洗该供给路径。

主权项：1.一种液处理装置的运转方法，其特征在于，包括以下工序：处理工序，利用设置于包括供给路径的流路系统的泵使处理液从处理液供给源向设置有过滤器的所述供给路径的下游侧流通，使处理液从形成所述供给路径的下游端的供给部供给到基板来对该基板进行处理；清洗工序，向所述流路系统供给清洗液来清洗该流路系统；以及供给路径清洗工序，包括在所述清洗工序中，在所述供给路径中的流体的压力损失比所述处理工序中的该压力损失低的清洗用状态下从该供给路径的上游侧向下游侧供给所述清洗液，来清洗该供给路径。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 液处理装置的运转方法和液处理装置

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