申请/专利权人：山口精研工业株式会社

申请日：2021-03-25

公开（公告）日：2021-10-12

公开（公告）号：CN113493652A

主分类号：C09G1/02(20060101)

分类号：C09G1/02(20060101);C09K3/14(20060101)

优先权：["20200401 JP 2020-066022"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.11.18#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要：本发明提供研磨剂组合物，其在氧化物单晶材料基板的研磨中，能够抑制研磨时的载体鸣音，并且实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物，其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，上述研磨剂组合物含有二氧化硅颗粒、水溶性高分子化合物和水，水溶性高分子化合物为至少将具有羧酸基的单体和具有磺酸基的单体作为必要单体的共聚物，源自具有羧酸基的单体的结构单元与源自具有磺酸基的单体的单元的摩尔比为95：5～5：95的范围，水溶性高分子化合物的重均分子量为1000～5000000。

主权项：1.一种研磨剂组合物，其特征在于，用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，所述研磨剂组合物含有二氧化硅颗粒、水溶性高分子化合物和水，所述水溶性高分子化合物为至少将具有羧酸基的单体和具有磺酸基的单体作为必要单体的共聚物，源自所述具有羧酸基的单体的结构单元与源自所述具有磺酸基的单体的结构单元的摩尔比为95：5～5：95的范围，所述水溶性高分子化合物的重均分子量为1000～5000000。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 山口精研工业株式会社 研磨剂组合物

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