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【发明公布】半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202110349838.1 

申请/专利权人:三星SDI株式会社

申请日:2021-03-31

公开(公告)日:2021-10-12

公开(公告)号:CN113495429A

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);G03F7/00(20060101)

优先权:["20200402 KR 10-2020-0040507"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.10.29#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要:本发明公开一种包含由化学式1表示的有机金属化合物、光酸产生剂PAG以及溶剂的半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法。化学式1的细节如详细描述中所定义。[化学式1]。

主权项:1.一种半导体光刻胶组合物,包括:由化学式1表示的有机金属化合物、光酸产生剂以及溶剂:[化学式1] 其中,在化学式1中,R为经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C3到C20环烷基、包含至少一个双键或三键的经取代或未经取代的C2到C20脂肪族不饱和有机基团、经取代或未经取代的C6到C30芳基、乙氧基、丙氧基或其组合,X、Y以及Z独立地为-OR1或-OC=OR2,R1为经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C3到C20环烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基、经取代或未经取代的C2到C20炔基、经取代或未经取代的C6到C30芳基或其组合,且R2为氢、经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C3到C20环烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基、经取代或未经取代的C2到C20炔基、经取代或未经取代的C6到C30芳基或其组合。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星SDI株式会社 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法

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