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【发明公布】曝光装置、图案形成装置以及曝光方法_佳能株式会社_202110353498.X 

申请/专利权人:佳能株式会社

申请日:2021-04-01

公开(公告)日:2021-10-12

公开(公告)号:CN113495437A

主分类号:G03F9/00(20060101)

分类号:G03F9/00(20060101);G03F7/20(20060101)

优先权:["20200407 JP 2020-069429"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.04.22#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要:本发明涉及曝光装置、图案形成装置以及曝光方法。抑制MMG技术中的图案的形成精度降低。在基板上对第1图案进行扫描曝光的曝光装置具有:标记形成部,在基板上形成多个对准标记;第1测量部,测量由标记形成部形成的多个对准标记的位置;以及输出部,输出由第1测量部测量的对准标记的位置信息,使得能够在对第2图案进行曝光的另一个曝光装置中利用,标记形成部在第1基板位置形成包括至少2个对准标记的第1标记组之后,在使基板在包括与连接第1标记组的2个对准标记的直线垂直的分量的方向上移动后的第2基板位置形成包括至少2个对准标记的第2标记组,在使基板从第1基板位置向第2基板位置移动的方向上对第1图案进行扫描曝光。

主权项:1.一种曝光装置,其特征在于,在基板上对第1图案进行扫描曝光,并且在与对所述第1图案进行曝光的区域不同的区域中对第2图案进行曝光的另一个曝光装置中的曝光之前对所述第1图案进行扫描曝光,所述曝光装置具有:标记形成部,在基板上形成对准标记;测量部,测量由所述标记形成部形成的对准标记的位置;以及输出部,输出由所述测量部测量的对准标记的位置信息,使得能够在对所述第2图案进行曝光的另一个曝光装置中利用由所述测量部测量的对准标记的位置信息,所述标记形成部在第1基板位置形成包括至少2个对准标记的第1标记组之后,在使所述基板在包括与连接所述第1标记组的2个对准标记的直线垂直的分量的方向上移动后的第2基板位置,形成包括至少2个对准标记的第2标记组,所述曝光装置在使所述基板从所述第1基板位置向所述第2基板位置移动的方向上对所述第1图案进行扫描曝光。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 佳能株式会社 曝光装置、图案形成装置以及曝光方法

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