申请/专利权人：大塚电子株式会社

申请日：2021-04-08

公开（公告）日：2021-10-12

公开（公告）号：CN113494889A

主分类号：G01B11/06(20060101)

分类号：G01B11/06(20060101);G06F17/14(20060101);G06F30/20(20200101)

优先权：["20200408 JP 2020-069736"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.03#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要：一种光学测定系统和光学测定方法。光学测定系统包括：光源，其用于产生测定光；受光部，其接收对试样照射测定光而产生的反射光或透射光来作为观测光；获取单元，其获取观测光中包含的波长范围内的、被设定为两端的相位相同的波长区间的观测光光谱；初始值决定单元，其基于在对观测光光谱进行傅立叶变换而得到的功率谱中出现的峰的位置，来决定试样的膜厚的初始值；拟合单元，其以使根据包含膜厚作为参数的试样的模型计算出的干涉光谱与观测光光谱一致的方式对模型的参数进行更新，来决定试样的膜厚；以及判断单元，其判断所决定的该膜厚是否满足基于先前获取到的膜厚的条件。

主权项：1.一种光学测定系统，具备：光源，其用于产生测定光；受光部，其接收对试样照射所述测定光而产生的反射光或透射光来作为观测光；获取单元，其获取所述观测光中包含的波长范围内的、被设定为两端的相位相同的波长区间的观测光光谱；初始值决定单元，其基于在对所述观测光光谱进行傅立叶变换而得到的功率谱中出现的峰的位置，来决定所述试样的膜厚的初始值；拟合单元，其以使根据包含膜厚作为参数的所述试样的模型计算出的干涉光谱与所述观测光光谱一致的方式对所述模型的参数进行更新，来决定所述试样的膜厚；以及判断单元，其判断所决定的该膜厚是否满足基于先前获取到的膜厚的条件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大塚电子株式会社 光学测定系统和光学测定方法

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