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【发明授权】荧光X射线分析装置_株式会社理学_201980052429.6 

申请/专利权人:株式会社理学

申请日:2019-06-06

公开(公告)日:2021-11-19

公开(公告)号:CN112534248B

主分类号:G01N23/223(20060101)

分类号:G01N23/223(20060101);G01N23/2209(20060101)

优先权:["20180809 JP 2018-149950"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.11.19#授权;2021.04.06#实质审查的生效;2021.03.19#公开

摘要:本发明的荧光X射线分析装置根据多路波高分析器13所输出的微分曲线、与针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度,同时地获得作为二次X射线7的强度相对于联动机构10的扫描角度20的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。接着,针对分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线,进行分析射线的鉴定,在于分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线,形成分析射线的鉴定结果。

主权项:1.一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置包括:X射线源,该X射线源对试样照射一次X射线;分光元件,该分光元件对从试样产生的二次X射线进行分光;检测器,通过上述分光元件分光的二次X射线入射到该检测器中,该检测器以与强度相对应的数量,产生与二次X射线的能量相对应的波高的脉冲;联动机构,该联动机构以入射到上述检测器中的二次X射线的波长变化的方式使上述分光元件与上述检测器联动;多路波高分析器,该多路波高分析器通过按多个波高范围而分类,对由上述检测器产生的脉冲进行计数,输出作为二次X射线的强度相对于波高的分布的微分曲线;定性分析机构,该定性分析机构中,针对因上述联动机构使波长变化的同时射入上述检测器中的二次X射线,根据上述多路波高分析器所输出的微分曲线、针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度,同时地获得作为二次X射线的强度相对于上述联动机构的扫描角度的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线;上述定性分析机构针对上述分析波高宽度曲线以及上述狭小波高宽度曲线进行分析射线的鉴定,在上述分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在上述狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线,形成分析射线的鉴定结果。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社理学 荧光X射线分析装置

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