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【发明授权】发光装置、面光源装置及显示装置_恩普乐股份有限公司_201880058073.2 

申请/专利权人:恩普乐股份有限公司

申请日:2018-09-05

公开(公告)日:2021-11-23

公开(公告)号:CN111051770B

主分类号:G02F1/13357(20060101)

分类号:G02F1/13357(20060101)

优先权:["20170906 JP 2017-171496"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.11.23#授权;2020.08.21#实质审查的生效;2020.04.21#公开

摘要:本发明的发光装置具有发光元件和光束控制部件。光束控制部件包括入射面、出射面、背面、突出部以及散射部。在包含中心轴的剖面中,从发光装置射出且光度最大的两束光所成的角度为150°以上。在包含中心轴的剖面中,使规定的光以60°的入射角入射并由散射部反射后的光中的、最大光量的光线与光量相对于最大光量为50%的光线所成的角度的平均值为5°以上。

主权项:1.一种发光装置,具有发光元件、和对从所述发光元件射出的光的配光进行控制的光束控制部件,该发光装置中,所述光束控制部件包括:入射面,是以与所述光束控制部件的中心轴相交的方式向背面侧开口的凹部的内表面,且使从所述发光元件射出的光入射;出射面,以与所述中心轴相交的方式配置于正面侧,使由所述入射面入射的光向外部射出;背面,从所述凹部的开口缘部向径向外侧延伸;突出部,在沿着所述中心轴的方向上,配置于所述出射面与所述背面之间,从所述背面的外周缘向径向外侧突出;以及散射部,配置于所述背面的一部分,使到达的光散射,在包含所述中心轴的虚拟平面上,从所述发光装置射出且光度最大的两束光所成的角度为150°以上,所述散射部在所述背面中配置于,从所述发光元件的发光面的中心射出、由所述入射面入射、接着由所述出射面和所述背面依次反射、接着从所述突出部的侧面射出的光到达的区域,在所述虚拟平面上,在从所述中心轴侧以60°的入射角将光照射至所述散射部并使其反射时,对于由所述散射部反射后的光线,第一角度和第二角度的平均值为5°以上,该第一角度是最大光量的第一光线与光量相对于最大光量为50%且反射角比所述第一光线大的第二光线所成的角度,该第二角度是所述第一光线与光量相对于最大光量为50%且反射角比所述第一光线小的第三光线所成的角度,当在所述背面中比所述散射部更靠中心侧且与所述散射部相邻的区域被从所述中心轴侧以60°的入射角照射光并使该光反射时,对于由所述背面反射后的光线,第三角度和第四角度的平均值小于3°,该第三角度是最大光量的第四光线与光量相对于最大光量为50%且反射角比所述第四光线大的第五光线所成的角度,该第四角度是所述第四光线与光量相对于最大光量为50%且反射角比所述第四光线小的第六光线所成的角度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 恩普乐股份有限公司 发光装置、面光源装置及显示装置

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