申请/专利权人：国核铀业发展有限责任公司;北京核力同创科技有限公司;无锡市核力创芯科技有限公司

申请日：2021-12-10

公开（公告）日：2022-01-07

公开（公告）号：CN113903490A

主分类号：G21K5/00(20060101)

分类号：G21K5/00(20060101);H01L21/263(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.05.10#授权;2022.01.25#实质审查的生效;2022.01.07#公开

摘要：本发明提供一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法，所述双真空舱室晶圆质子辐照装置包括：晶圆辐照真空舱和换片真空舱，所述晶圆辐照真空舱和换片真空舱通过连接真空段连通；所述连接真空段外设有屏蔽墙；所述晶圆辐照真空舱设置于辐照厅，所述换片真空舱设置于辐照前厅，所述屏蔽墙把所述辐照厅和辐照前厅密封隔离开。所述辐照装置非常适合于高能质子辐照，有利于大幅减轻工作人员所受到的射线伤害，可以实现晶圆的均匀化辐照，提高辐照质量，容量大，提高生产效率，保证了晶圆托盘平稳传输，有效到位，不会对大气造成活化，有助于从两个方面提高辐照精度能够实现高性能IGBT芯片的生产和软度因子大于2的快软恢复快软恢复二极管的制造。

主权项：1.一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，包括：晶圆辐照真空舱和换片真空舱，所述晶圆辐照真空舱和换片真空舱通过连接真空段连通；所述连接真空段外设有屏蔽墙；所述晶圆辐照真空舱设置于辐照厅，所述换片真空舱设置于辐照前厅，所述屏蔽墙把所述辐照厅和辐照前厅密封隔离开。

全文数据：

权利要求：

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