申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2020-05-14
公开(公告)日:2022-01-14
公开(公告)号:CN113939773A
主分类号:G03F7/20(20060101)
分类号:G03F7/20(20060101)
优先权:["20190613 EP 19179946.9"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2022.06.28#实质审查的生效;2022.01.14#公开
摘要:一种用于光刻设备的光学系统的保护装置,该光学系统采用具有预定波长的电磁辐射,该保护装置包括膜,该膜对于所述预定波长的辐射是透明的,并且所述膜在所述光刻设备的使用期间被定位成邻近所述光学系统的部件。
主权项:1.一种用于光刻设备的光学系统的保护装置,所述光学系统采用具有预定波长的电磁辐射,所述保护装置包括膜,该膜至少对于所述预定波长的辐射是基本上透明的,并且所述膜在所述光刻设备的使用期间被定位成邻近所述光学系统的部件。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 光刻设备
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。