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【发明授权】一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法_中国科学院金属研究所;中国电子科技集团公司第四十七研究所_202010143434.2 

申请/专利权人:中国科学院金属研究所;中国电子科技集团公司第四十七研究所

申请日:2020-03-04

公开(公告)日:2022-01-14

公开(公告)号:CN111235562B

主分类号:C23C24/04(20060101)

分类号:C23C24/04(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.01.14#授权;2020.06.30#实质审查的生效;2020.06.05#公开

摘要:本发明属于防护涂层制备领域,具体涉及一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法。该方法包括以下步骤:1采用冷气动力喷涂技术,将Al或Ti金属粉末喷涂到器件基体表面,形成金属打底涂层;2采用冷气动力喷涂技术,将纯Ta粉喷涂到打底涂层上,形成Ta涂层。本发明有效地避免了制备钽涂层需要的高温条件,以及由此带来的氧化等性能降低问题。本发明采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层,可以用于电子封装器件外表面的抗辐照防护。

主权项:1.一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法,其特征在于,在封装后的器件基体上采用冷喷涂制备抗辐照Ta涂层,包括以下步骤:1采用冷气动力喷涂技术,将Al金属粉末喷涂到器件基体表面,形成金属打底涂层;2采用冷气动力喷涂技术,将纯Ta粉喷涂到打底涂层上,形成Ta涂层;步骤1中,器件基体为金属、陶瓷或金属陶瓷复合基体,Al金属粉末的形貌为球形或类球形,粒度范围为10~100μm,打底涂层厚度为30~150μm;步骤1中,冷气动力喷涂使用压缩空气或氮气作为工作气体,温度150~500℃,压力1.5~3.0MPa,喷涂距离10~40mm;步骤2中,纯Ta粉形貌为球形或不规则形状,粒度范围为10~100μm,钽涂层的厚度为100~3000μm;步骤2中,冷气动力喷涂使用压缩空气或氮气作为工作气体,温度300~500℃,压力1.5~3.0MPa,喷涂距离10~40mm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院金属研究所;中国电子科技集团公司第四十七研究所 一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法

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