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【发明公布】用于形成包括过渡金属层的结构的方法和系统_ASM IP私人控股有限公司_202110804671.3 

申请/专利权人:ASM IP私人控股有限公司

申请日:2021-07-16

公开(公告)日:2022-01-21

公开(公告)号:CN113957418A

主分类号:C23C16/455(20060101)

分类号:C23C16/455(20060101);C23C16/30(20060101);C23C16/32(20060101);C23C16/34(20060101);C23C16/52(20060101);C23C16/56(20060101)

优先权:["20200720 US 63/054,135"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.07.25#实质审查的生效;2022.01.21#公开

摘要:公开了用于在衬底表面上形成过渡金属层的方法和系统以及使用该方法形成的结构和器件。示例性方法包括在形成过渡金属层之前形成过渡层。过渡层可用于促进过渡金属层在高纵横比特征上的后续沉积,同时减轻这些特征在过渡金属层的沉积期间的弯曲。

主权项:1.一种形成结构的方法,该方法包括以下步骤:提供衬底;在衬底表面上形成包含过渡金属硫化物、过渡金属碳化物和过渡金属氮化物中的一种或多种的过渡层;以及形成覆盖过渡层的过渡金属层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASM IP私人控股有限公司 用于形成包括过渡金属层的结构的方法和系统

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