申请/专利权人：富士胶片株式会社

申请日：2020-12-07

公开（公告）日：2022-08-12

公开（公告）号：CN114902138A

主分类号：G03F7/039

分类号：G03F7/039;C08F20/38;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20

优先权：["20191227 JP 2019-239614"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.08.30#实质审查的生效;2022.08.12#公开

摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性树脂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：含有具有特定的环结构的重复单元a1的树脂A、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物B通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的特定的化合物C。

主权项：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有：A树脂，其含有具有由下述通式1表示的结构的重复单元a1；B化合物，其通过光化射线或放射线的照射而产生酸；及C离子性化合物，其为通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的化合物，且具有阴离子性酸捕获性基团，不具有非离子性酸捕获性基团，并且在阴离子部含有氟原子， 通式1中，na1表示1以上的整数，R1～R4分别独立地表示氢原子、烷基、卤原子或羟基，当na1表示2以上的整数时，多个R1及R2分别相同或不同，*表示键合位置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 富士胶片株式会社 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

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