申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司

申请日：2022-06-21

公开（公告）日：2022-09-02

公开（公告）号：CN114999953A

主分类号：H01L21/66

分类号：H01L21/66;H01L23/544;H01L27/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.09.20#实质审查的生效;2022.09.02#公开

摘要：本发明提供一种WAT电性测试版图包括呈矩阵分布的多个形状相同的有源区图形；横跨有源区图形，且依次交替设置的第一、二器件区图形，第一、二器件区图形的交界线均分其横跨的有源区图形；设于有源区图形上的接触孔图形，且每一列有源区图形上的接触孔图形中两者的相对位置不同；在每列有源区图形中，设于相邻的两个有源区图形及其上接触孔图形的第一焊垫图形；在每行有源区图形中，横跨相邻的两个有源区图形及其上接触孔图形的第二焊垫图形；其中第一、二焊垫图形组成不重叠的且横跨每个有源区图形的测试回路。本发明版图制得的器件，在测试时通过测试该图形的电阻值，能判断是否存在低压、中压有源区域交界区的NiSi异常，提高了缺陷检测的效率。

主权项：1.一种WAT电性测试版图，其特征在于，包括：呈矩阵分布的多个形状相同的有源区图形；横跨所述有源区图形，且依次交替设置的第一、二器件区图形，所述第一、二器件区图形的交界线均分其横跨的所述有源区图形；设于所述有源区图形上的接触孔图形，且每一列所述有源区图形上的所述接触孔图形中两者的相对位置不同；在每列所述有源区图形中，设于相邻的两个所述有源区图形及其上所述接触孔图形的第一焊垫图形；在每行所述有源区图形中，横跨相邻的两个所述有源区图形及其上所述接触孔图形的第二焊垫图形；其中所述第一、二焊垫图形组成不重叠的且横跨每个所述有源区图形的测试回路。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 WAT电性测试版图

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