申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日：2018-10-31

公开（公告）日：2022-09-20

公开（公告）号：CN115079517A

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;C07C395/00;C07D345/00;C07C309/19;C07C309/10;C07C62/06;G03F7/20

优先权：["20171130 US 62/593,227"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开

摘要：本申请涉及光致抗蚀剂组合物、用于提供光致抗蚀剂浮雕图像的方法以及盐和包含其的光致抗蚀剂。提供新Te盐化合物，其包括适用于极紫外光刻的光活性碲盐化合物。

主权项：1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：树脂；和下式I的一种或多种盐： 其中，R1、R2和R3各自独立地为C6-60芳基、C6-20氟芳基、C1-20杂芳基、C7-20芳烷基、C7-20氟芳烷基、C2-20杂芳烷基、C2-20氟杂芳烷基、C1-20烷基、C1-20氟烷基、C3-20环烷基、C3-20氟环烷基、C2-20烯基或者C2-20氟烯基，其各自经取代或未经取代，其中，每个R1与R2和或R3是分开的或者是连接到R2和或R3形成环，以及Z包括抗衡阴离子，其中，盐包含一个或多个酸不稳定基团。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 盐和包含其的光致抗蚀剂

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