申请/专利权人:株式会社荏原制作所
申请日:2021-01-13
公开(公告)日:2022-09-20
公开(公告)号:CN115087517A
主分类号:B24B37/005
分类号:B24B37/005;B24B37/10;B24B41/06;B24B49/02;H01L21/304;H01L21/68;H01L21/683
优先权:["20200206 JP 2020-018824"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开
摘要:使具有异形部分的未被预对准的基板的定位精度提升。基板处理装置包含:平台,用于支承基板;垫保持架,用于保持研磨垫,研磨垫用于研磨被支承在平台的基板;升降机构,用于使垫保持架相对于基板升降;及至少3个定心机构400A、400B、400C,用于向平台的中心方向按压被支承在平台的基板以进行对位,至少3个定心机构400A、400B、400C分别包含:被配置在平台的周围的旋转轴430、及被安装在旋转轴430的定心构件440,定心构件440包含:旋转轴430向第1方向旋转时与基板WF接触的第1接触部440a、及旋转轴430向与第1方向相反的第2方向旋转时与基板WF接触的第2接触部440b。
主权项:1.一种基板处理装置,其特征在于,包含:平台,该平台用于支承基板;垫保持架,该垫保持架用于保持研磨垫,该研磨垫用于研磨被支承在所述平台的基板;升降机构,该升降机构用于使所述垫保持架相对于所述基板升降;及至少3个定心机构,该定心机构用于向所述平台的中心方向按压被支承于所述平台的基板并进行对位,所述至少3个定心机构分别包含:被配置在所述平台的周围的旋转轴、及被安装在所述旋转轴的定心构件,所述定心构件包含:所述旋转轴向第1方向旋转时与所述基板接触的第1接触部、及所述旋转轴向与所述第1方向相反的第2方向旋转时与所述基板接触的第2接触部。
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权利要求:
百度查询: 株式会社荏原制作所 基板处理装置及基板处理方法
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