申请/专利权人：东京应化工业株式会社

申请日：2021-02-09

公开（公告）日：2022-09-20

公开（公告）号：CN115087928A

主分类号：G03F7/039

分类号：G03F7/039;C08F112/14;C08F112/34;C08F212/14;C08F220/18;G03F7/20

优先权：["20200221 JP 2020-028199"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开

摘要：一种抗蚀剂图案形成方法，具有：使用通过曝光产生酸且相对于碱性显影液的溶解性因酸的作用而增大的抗蚀剂组合物，在支承体上形成抗蚀剂膜的工序；对抗蚀剂膜进行曝光的工序；及对曝光后的抗蚀剂膜进行碱性显影而形成正型抗蚀剂图案的工序，作为抗蚀剂组合物，含有第1树脂成分与第2树脂成分，第1树脂成分包含具有由与α位的碳原子键合的氢原子可被取代基取代的丙烯酸衍生的结构单元的高分子化合物，第2树脂成分包含兼具含酚性羟基的结构单元与含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元的高分子化合物。由此，能够提供显影膜减少得以抑制、高灵敏度且难以产生残渣的作为新方法的抗蚀剂图案形成方法。

主权项：1.一种抗蚀剂图案形成方法，具有：使用通过曝光产生酸且相对于碱性显影液的溶解性因酸的作用而增大的抗蚀剂组合物，在支承体上形成抗蚀剂膜的工序；对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；及对所述曝光后的抗蚀剂膜进行碱性显影而形成正型抗蚀剂图案的工序，其特征在于，所述抗蚀剂组合物含有第1树脂成分P1与第2树脂成分P2，所述第1树脂成分P1包含具有由与α位的碳原子键合的氢原子可被取代基取代的丙烯酸衍生的结构单元a0的高分子化合物p10，所述第2树脂成分P2包含兼具含酚性羟基的结构单元u0与含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元u1的高分子化合物p20。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京应化工业株式会社 抗蚀剂图案形成方法

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