申请/专利权人:深圳市容微精密电子有限公司
申请日:2022-06-16
公开(公告)日:2022-09-20
公开(公告)号:CN115078791A
主分类号:G01R3/00
分类号:G01R3/00;G01R1/067;B81C1/00
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开
摘要:本发明提供一种MEMS探针卡制备方法,本发明通过对所述第一光刻胶进行曝光显影以得到用于形成所述探针金属层的空间,并通过在所述空间内形成一所述金属层以得到所述探针金属层,通过对所述基板及所述金属层表面的所述第二光刻胶进行曝光显影以得到后续用于刻蚀所述基板的掩膜图案,根据所述掩膜图案对所述基板进行刻蚀最终得到表面金属化的所述探针卡,本发明通过MEMS工艺制备仅仅采用两次掩膜即可制得间距较小的探针,使得制造成本更低,制造工艺更简单,更有利于进行批量制造和成本管控。
主权项:1.一种MEMS探针卡制备方法,所述探针卡包括多个探针金属层,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:在基板的一表面形成第一光刻胶;对所述第一光刻胶进行曝光显影以得到多个间隔设置以便于后续用于形成探针金属层的空间;在所述空间内形成一金属层得到所述探针金属层;去除剩余的所述第一光刻胶;在所述探针金属层和所述表面上形成第二光刻胶;对所述第二光刻胶进行曝光显影以得到掩膜图案,其中,所述掩膜图案与所述探针卡结构相对应;根据所述掩膜图案对所述基板进行刻蚀以得到具有所述探针金属层的所述探针卡;去除剩余的所述第二光刻胶。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳市容微精密电子有限公司 一种MEMS探针卡制备方法
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