申请/专利权人：苏州华星光电技术有限公司

申请日：2022-07-05

公开（公告）日：2022-09-20

公开（公告）号：CN115079524A

主分类号：G03F9/00

分类号：G03F9/00;H01L27/12

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开

摘要：本申请实施例公开了一种驱动基板的制备方法，本申请实施例的驱动基板的制备方法在拼接曝光过程中，同层设置的第一曝光层和第二曝光层重叠形成第一拼接区域，并将第一基准标尺、第二基准标尺以及和第三基准标尺均设置在第一拼接区域外侧，且第一基准标尺、第二基准标尺以及和第三基准标尺均是由单次曝光形成，以有效避免因多次曝光而导致基准标尺本身存在误差的影响。而后续同层设置的第三曝光层和第四曝光层在曝光对位中均会使用第二基准标尺进行对位，如此通过在曝光同层时采用同一组基准标尺，如此有效避免了因采用不同基准标尺而导致位置偏差的影响。进而在曝光工艺制程中，提升第二层重叠曝光区域的对位性能，改善重叠曝光区的拼接精度。

主权项：1.一种驱动基板的制备方法，其特征在于，包括：S1：提供一玻璃基板，通过第一掩模板与所述玻璃基板对位，以在所述玻璃基板上界定第一曝光区域，在所述玻璃基板的第一曝光区域形成第一曝光层，所述第一曝光层包括第一基准标尺；S2：通过第二掩模板与所述玻璃基板对位，以在所述玻璃基板上界定第二曝光区域，所述第二曝光区域与所述第一曝光区域部分重叠设置以形成为第一拼接区域，在所述玻璃基板的所述第二曝光区域形成与所述第一曝光层同层设置的第二曝光层，所述第二曝光层包括第二基准标尺和第三基准标尺，所述第一基准标尺、所述第二基准标尺以及第三基准标尺同时位于所述第一拼接区域的外侧，且所述第二基准标尺位于所述第一基准标尺和所述第三基准标尺之间；S3：通过第三掩模板同时与所述第一基准标尺和所述第二基准标尺进行对位后，以在所述玻璃基板上界定第三曝光区域；S4：通过第四掩模板同时与所述第二基准标尺和所述第三基准标尺进行对位后，以在所述玻璃基板上界定第四曝光区域，所述第四曝光区域与所述第三曝光区域部分重叠设置形成第二拼接区域；S5：通过所述第三掩模板对所述玻璃基板的第三曝光区域进行曝光以形成第三曝光层，所述第三曝光层位于所述第一曝光层的上方，通过所述第四掩模板对所述玻璃基板的第四曝光区域进行曝光以形成与所述第三曝光层同层设置的第四曝光层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州华星光电技术有限公司 驱动基板的制备方法

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