买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】防反射膜、红外线截止滤波器以及透镜_日本板硝子株式会社_202110217172.4 

申请/专利权人:日本板硝子株式会社

申请日:2018-12-25

公开(公告)日:2022-09-20

公开(公告)号:CN112748485B

主分类号:G02B1/111

分类号:G02B1/111;C09D183/04

优先权:["20180213 JP 2018-023182","20181107 JP 2018-209453"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.09.20#授权;2021.05.21#实质审查的生效;2021.05.04#公开

摘要:本发明涉及防反射膜、红外线截止滤波器以及透镜。本发明的膜1具备中空粒子10和粘结剂20。中空粒子由具有1.15~2.70的折射率的材料形成。粘结剂20至少由聚倍半硅氧烷形成,并将中空粒子10粘结。膜1满足IbIa≥0.7和IbIc≥0.3的至少1个条件。Ia是由使用傅里叶变换红外分光光度计的全反射测定法决定的、来自未与硅原子直接键合的烃基的吸光度。Ib是来自硅原子与非反应性官能团的键的吸光度。Ic是来自硅原子与羟基的键的吸光度。

主权项:1.一种防反射膜,其具备:第一低折射率层、和第二低折射率层,所述第一低折射率层包含具有10nm~150nm的平均一次粒径的中空粒子,且具有80nm~350nm的厚度和1.25以下的折射率,所述第二低折射率层具有30nm~300nm的厚度和1.5以下的折射率,所述第一低折射率层还包含至少由聚倍半硅氧烷形成并将所述中空粒子粘结的粘结剂,在将由使用傅里叶变换红外分光光度计的全反射测定法决定的来自未与硅原子直接键合的烃基的吸光度、来自硅原子与非反应性官能团的键的吸光度、以及来自硅原子与羟基的键的吸光度分别表示为Ia、Ib和Ic时,所述第一低折射率层满足IbIa≥0.7和IbIc≥0.3中的至少1个条件。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 日本板硝子株式会社 防反射膜、红外线截止滤波器以及透镜

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。