申请/专利权人：江苏泰利达新材料股份有限公司

申请日：2022-06-09

公开（公告）日：2022-09-20

公开（公告）号：CN217449981U

主分类号：B01F35/32

分类号：B01F35/32;B01F27/906;B01F35/93;B01F35/11;B01F35/12

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.20#授权

摘要：本实用新型公开了一种CMC生产用合成反应釜，涉及反应釜技术领域，包括底脚，还包括清洁结构以及疏通结构，所述底脚的顶端安装有主体，且主体内部的底端安装有出料管，所述出料管的底端安装有出料阀门，且主体的内部横向安装有安装板，所述主体内部的两侧均安装有两个加热板，且主体的顶端中间位置处安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端安装有转杆，且主体内部转杆的两侧均安装有多个搅拌叶片，所述主体内部顶端的一侧安装有投料管，且疏通结构位于投料管的内部。本实用新型通过提供有转杆，在转杆进行转动的过程中，清洁刷不断与主体的内壁接触，将主体内壁黏连的反应物去除，该结构实现了对反应釜内部的残留反应物的祛除。

主权项：1.一种CMC生产用合成反应釜，包括底脚（1），其特征在于：还包括清洁结构以及疏通结构（9）；所述底脚（1）的顶端安装有主体（4），且主体（4）内部的底端安装有出料管（3），所述出料管（3）的底端安装有出料阀门（2），且主体（4）的内部横向安装有安装板（5），所述主体（4）内部的两侧均安装有两个加热板（6），且主体（4）的顶端中间位置处安装有驱动电机（8），所述驱动电机（8）的输出端安装有转杆（12），且主体（4）内部转杆（12）的两侧均安装有多个搅拌叶片（11），所述主体（4）内部顶端的一侧安装有投料管（10），且疏通结构（9）位于投料管（10）的内部；所述投料管（10）的顶端穿过主体（4）延伸至主体（4）的上方，且主体（4）内部顶端远离投料管（10）的一侧均安装有溶剂管（7），所述溶剂管（7）的顶端穿过主体（4）延伸至主体（4）的上方，且清洁结构位于转杆（12）的前后两端；所述清洁结构包括固定槽（14），所述固定槽（14）均安装于转杆（12）前后两端的上下两端，且固定槽（14）内部靠近转杆（12）的一端均安装有电磁铁（15），所述固定槽（14）的内部均安装有密封板（16），且密封板（16）远离电磁铁（15）一端固定槽（14）的内部均设置有磁性滑块（17），所述磁性滑块（17）远离电磁铁（15）的一端均安装有推杆（19），且固定槽（14）内部推杆（19）的外壁均套设有固定弹簧（18），所述推杆（19）远离转杆（12）的一端均安装有清洁刷（13）。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏泰利达新材料股份有限公司 一种CMC生产用合成反应釜

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