申请/专利权人：赫曼半导体技术(深圳)有限公司

申请日：2022-06-24

公开（公告）日：2022-09-20

公开（公告）号：CN217459562U

主分类号：C23C14/08

分类号：C23C14/08;C23C14/34

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.20#授权

摘要：本实用新型提供了一种异形镀膜遮护罩和镀膜设备，包括本体部和开口部，开口部可与镀膜靶材在第一方向上投影交叠，第一方向为靶材粒子的出射方向；本体部包括连接设置的第一主体部和第一辅助部，第一主体部在第一方向上与镀膜靶材不交叠，第一辅助部在第一方向上部分覆盖镀膜靶材。利用该异形镀膜遮护罩中的第一辅助部能够大幅减轻镀膜中金属靶材溅射过程中掉落镀膜机腔体中，造成产品内金属走线或电极设计不良进而导致产品品质异常；以及可以降低镀膜靶材回镀在靶材回镀区，延迟镀膜靶材使用周期，提升镀膜靶材的利用率。

主权项：1.一种异形镀膜遮护罩，其特征在于，包括本体部和开口部，所述开口部可与镀膜靶材在第一方向上投影交叠，所述第一方向为靶材粒子的出射方向；所述本体部包括连接设置的第一主体部和第一辅助部，所述第一主体部在所述第一方向上与所述镀膜靶材不交叠，所述第一辅助部在所述第一方向上部分覆盖所述镀膜靶材。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 赫曼半导体技术(深圳)有限公司 一种异形镀膜遮护罩和镀膜设备

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