申请/专利权人:苏州芯图半导体有限公司
申请日:2022-05-07
公开(公告)日:2022-09-20
公开(公告)号:CN217451190U
主分类号:B08B3/02
分类号:B08B3/02;B08B13/00
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2022.09.20#授权
摘要:本实用新型提供了一种光罩清洗装置,对光罩进行清洗,光罩清洗装置包括清洗治具,以及整体驱动清洗治具作水平转动的驱动机构,清洗治具径向向外延伸形成若干承载悬臂,承载悬臂之间形成供水流射向被清洗治具承托的光罩背面的背洗区域,承载悬臂的末端竖向配置用以卡持光罩的若干限位件,清洗溶液可通过背洗区域射向被清洗治具承托的光罩的背面,继而实现对光罩背面的清洁,满足了光罩高清洁度的工业需求,并实现了对不同尺寸的光罩承托与清洗作业需求。
主权项:1.一种光罩清洗装置,对光罩进行清洗,其特征在于,所述光罩清洗装置包括:清洗治具,以及整体驱动所述清洗治具作水平转动的驱动机构;所述清洗治具径向向外延伸形成若干承载悬臂,所述承载悬臂之间形成供水流射向被所述清洗治具承托的光罩背面的背洗区域,承载悬臂的末端竖向配置用以卡持光罩的若干限位件。
全文数据:
权利要求:
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