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【发明公布】一种基于空间电势限域的3D微纳结构直写系统_河南大学_202210704210.3 

申请/专利权人:河南大学

申请日:2022-06-21

公开(公告)日:2022-09-23

公开(公告)号:CN115101398A

主分类号:H01J37/302

分类号:H01J37/302;H01J37/317;B82Y40/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.10.14#实质审查的生效;2022.09.23#公开

摘要:本发明涉及微纳米技术领域,特别是涉及一种基于空间电势限域的3D微纳结构直写系统,包括:模型构建模块,基于待构筑微纳结构的形态和特点,构建3D结构模型,并生成数字控制信号及直写过程中电子束的驻留时间和扫描速率;数模转换模块,对数字控制信号进行数模转换和放大,得到模拟控制信号;工作台模块,用于承载待写材料,并调整待写材料的角度;电子束模块,用于发射电子束并聚焦在待写材料的上方,并控制电子束的焦点按照设定路径进行扫描,对待写材料进行直写,得到待构筑微纳结构;束闸模块,进行打开和关闭,以控制电子束是否聚焦在待写材料的上方。本发明能够灵活便捷、低成本地实现微纳结构及纳米器件的直写构筑,材料普适性宽。

主权项:1.一种基于空间电势限域的3D微纳结构直写系统,其特征在于,包括:模型构建模块,基于待构筑微纳结构的形态和特点,构建3D结构模型,并基于所述3D结构模型的特征,生成数字控制信号及待构筑微纳结构直写过程中电子束的驻留时间和扫描速率;数模转换模块,对所述数字控制信号进行数模转换和放大,得到模拟控制信号;工作台模块,用于承载衬底及待写材料,并根据所述模拟控制信号对所述衬底的空间位置进行调整,根据所述模拟控制信号对所述待写材料的角度进行调整;电子束模块,用于根据所述模拟控制信号发射电子束并聚焦在所述待写材料的上方,并基于所述驻留时间和所述扫描速率控制所述电子束的焦点按照设定路径进行扫描,对所述待写材料进行直写,得到所述待构筑微纳结构;束闸模块,基于所述模拟控制信号进行打开和关闭,以控制所述电子束是否聚焦在所述待写材料的上方。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 河南大学 一种基于空间电势限域的3D微纳结构直写系统

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