申请/专利权人:成都探芯科技有限公司
申请日:2022-08-29
公开(公告)日:2022-09-23
公开(公告)号:CN115101473A
主分类号:H01L21/768
分类号:H01L21/768
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.01.26#授权;2022.10.14#实质审查的生效;2022.09.23#公开
摘要:本发明提供一种铝通孔芯片的去层方法,该铝通孔芯片的去层方法包括如下步骤:S1:将芯片进行干法刻蚀,露出铝金属;S2:通过湿法刻蚀将铝金属反应掉,使和铝金属紧贴的阻挡层露出;S3:铝金属反应掉后,铝孔也会被反应,因此会在阻挡层上留下与下层金属连接的孔洞,该孔洞就是通孔的位置;S4:采集该层次的图像将金属线的信息和下层孔的信息全部进行采集。该铝通孔芯片的去层方法具有的优点如下:该方法可以很好地解决同层金属线不在同一水平面上,不同位置的金属线有一个高度的落差,且现有的加工方法会导致做失效分析或电路分析时,电路信息丢失的问题。
主权项:1.一种铝通孔芯片的去层方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:将芯片进行干法刻蚀,露出铝金属;S2:通过湿法刻蚀将铝金属反应掉,使和铝金属紧贴的阻挡层露出;S3:铝金属反应掉后,铝孔也会被反应,因此会在阻挡层上留下与下层金属连接的孔洞,该孔洞就是通孔的位置;S4:采集该层次的图像将金属线的信息和下层孔的信息全部进行采集。
全文数据:
权利要求:
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