申请/专利权人：北京七星华创流量计有限公司

申请日：2022-03-31

公开（公告）日：2022-09-23

公开（公告）号：CN217483727U

主分类号：G01L7/08

分类号：G01L7/08;G01L19/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.23#授权

摘要：本实用新型提供一种压力测量装置，包括：底座，具有容置腔和流体通道，容置腔的底壁设有流通口，流体通道与流通口连通；隔膜和压力传感器，设置在容置腔内，隔膜具有相对设置的第一侧和第二侧，第一侧设有定位凹槽，第二侧设有测压凹槽，其中，压力传感器的测压端设置在定位凹槽内，测压端的测压面与定位凹槽的槽底贴合，且测压端的周向侧壁与定位凹槽的槽壁贴合，压力传感器将隔膜压紧至容置腔的底壁，流通口与测压凹槽相对设置，测压凹槽与容置腔的底壁共同围成测压密封腔，测压密封腔通过流通口与流体通道连通。上述压力测量装置的测压面与定位凹槽的槽底紧密贴合，有利于流体压力更加准确地传递至测压面，从而提高流体压力测量精度。

主权项：1.一种压力测量装置，其特征在于，包括：底座，具有容置腔和流体通道，所述容置腔的底壁设有流通口，所述流体通道与所述流通口连通；隔膜和压力传感器，设置在所述容置腔内，所述隔膜具有相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧设有定位凹槽，所述第二侧设有测压凹槽，其中，所述压力传感器的测压端设置在所述定位凹槽内，所述测压端的测压面与所述定位凹槽的槽底贴合，且所述测压端的周向侧壁与所述定位凹槽的槽壁贴合，所述压力传感器将所述隔膜压紧至所述容置腔的底壁，所述流通口与所述测压凹槽相对设置，所述测压凹槽与所述容置腔的底壁共同围成测压密封腔，所述测压密封腔通过所述流通口与所述流体通道连通。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京七星华创流量计有限公司 压力测量装置

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