申请/专利权人：恩普乐股份有限公司

申请日：2022-03-15

公开（公告）日：2022-09-27

公开（公告）号：CN115113434A

主分类号：G02F1/13357

分类号：G02F1/13357

优先权：["20210319 JP 2021-046030"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.29#实质审查的生效;2022.09.27#公开

摘要：本发明涉及发光装置、面光源装置及显示装置。本发明的一实施方式的发光装置具有配置于基板上的多个发光元件以及配置于所述多个发光元件之上且用于对从所述多个发光元件射出的光的配光进行控制的光束控制部件，该发光装置中，所述发光元件配置于如下位置：当俯视所述光束控制部件的情况下，在将从所述光束控制部件的重心至该发光元件的光轴的长度设为L1，并将从所述光束控制部件的重心至与该发光元件对应的所述入射单元的中心轴的长度设为L2时，该位置使得所述L1比L2长。

主权项：1.一种发光装置，具有配置于基板上的多个发光元件以及配置于所述多个发光元件之上且用于对从所述多个发光元件射出的光的配光进行控制的光束控制部件，所述发光装置的特征在于，所述光束控制部件具有：多个入射单元，用于使从所述多个发光元件射出的光分别入射；以及出射单元，在沿着所述基板的方向上配置于所述多个入射单元之间，对由所述多个入射单元入射的光进行导光并使其射出，所述多个入射单元分别具有：入射面，配置于所述光束控制部件的背面侧，使从所述发光元件射出的光入射；以及反射面，在所述光束控制部件的正面侧配置于隔着所述入射面与所述发光元件相对的位置，使由所述入射面入射的光以远离所述发光元件的光轴的方式向侧方方向反射，所述发光元件配置于如下位置：当俯视所述光束控制部件的情况下，在将从所述光束控制部件的重心向该发光元件的光轴画垂线时的、从所述重心至所述光轴上的点为止的长度设为L1，并将从所述光束控制部件的重心向与该发光元件对应的所述入射单元的中心轴画垂线时的、从所述重心至所述中心轴上的点为止的长度设为L2时，该位置使得所述L1比所述L2长。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 恩普乐股份有限公司 发光装置、面光源装置及显示装置

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