申请/专利权人：张家港中贺自动化科技有限公司

申请日：2020-12-17

公开（公告）日：2022-09-27

公开（公告）号：CN112526832B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.27#授权;2021.04.06#实质审查的生效;2021.03.19#公开

摘要：本发明提供了一种高分辨率的无掩模光刻系统，其对成像系统进行改进，可以大幅度提高分辨率，同时光学镜片少，成本低，包括顺序设置的曝光光源、聚光部件、积分器、投射部件、空间光调制器、第一成像系统、聚光元件阵列、空间滤波器、第二成像系统，其特征在于：第一成像系统至少包括顺序设置的：透镜、反射镜，所述空间光调制器输出的特征图形光束经透镜投射到反射镜上，反射镜将特征图形光束反射到所述透镜上，通过所述透镜折射后输出。

主权项：1.一种高分辨率的无掩模光刻系统，包括顺序设置的：曝光光源，用于产生光束；聚光部件，用于汇聚所述曝光光源生产的光束；积分器，用于将光束均匀化；投射部件，用于将光束投射到空间光调制器上；空间光调制器，用于将投射到所述空间光调制器上的光束调制成特征图形光束后输出；第一成像系统，用于将所述空间光调制器输出的特征图形光束成像在聚光元件阵列上；聚光元件阵列，用于将特征图形光束聚集为离散的聚光斑；空间滤波器，用于对离散的聚光斑进行过滤；第二成像系统，用于将经所述空间滤波器过滤的离散的聚光斑成像于成像面上，其特征在于：所述第一成像系统包括顺序设置的：透镜、反射镜，所述透镜和反射镜分别仅设有一片，所述空间光调制器输出的特征图形光束经透镜投射到反射镜上，反射镜将特征图形光束反射到所述透镜上，通过所述透镜折射后输出；所述透镜为平凸透镜；所述第一成像系统满足关系式：0.6Mag1.5其中Mag为第一成像系统倍率，Mag＝PxPDx，Px为聚光元件阵列在X方向的单元间距,PDx为空间光调制器在X方向上的单元阵列的间距；所述第一成像系统满足关系式：1.9＜R2R1＜4.5其中，R1为第一成像系统的透镜的球面的曲率半径，R2为第一成像系统的反射镜的曲率半径；所述系统满足如下公式：0.033Px×Pyλ＜f＜0.66Px×Pyλ其中，f为聚光元件阵列中聚光元件的等效焦距，λ为曝光波长。

全文数据：

权利要求：

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