申请/专利权人：西实显示高新材料(沈阳)有限公司

申请日：2022-09-28

公开（公告）日：2022-11-22

公开（公告）号：CN115376974A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/673;H05H1/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.12.09#实质审查的生效;2022.11.22#公开

摘要：本发明涉及一种偏压装置及基片处理设备，偏压装置包括偏压电源及偏压装置。偏压电源设有电极。偏压装置用于向电连接于偏压电源的电极，并将偏压电源电极的电势传导至通电对象。具体地，通电对象为基片或载具。进一步地，偏压装置容置于内腔，以便于与处于处理工位的通电对象接触。更具体地，偏压电源具有正电极及负电极，偏压装置将负电极的电势传导至通电对象。活动导体在弹性件的弹力作用下对轮体组件产生顶推，从而将轮体组件顶推至通电对象的表面，使活动导体、轮体组件及通电对象表面之间保持稳定接触，从而能使通电对象始终作为整体电极的一部分，确保针对基片的处理工艺保持稳定。

主权项：1.一种偏压装置，其特征在于，包括：第一支架，用于连接支撑部；轮体组件，活动连接于所述第一支架并能够沿预定方向相对所述第一支架活动；及传导组件，包括活动导体、弹性件及柔性导体；所述活动导体活动连接于所述第一支架并能够沿所述预定方向相对所述第一支架活动；所述弹性件连接于所述活动导体并对所述活动导体产生弹力，以使所述活动导体从背向侧抵持于所述轮体组件；所述柔性导体连接于所述活动导体；所述柔性导体还电连接于偏压电源的电极。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西实显示高新材料(沈阳)有限公司 偏压装置及基片处理设备

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