申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2022-05-23

公开（公告）日：2022-11-25

公开（公告）号：CN115386341A

主分类号：C09K3/14

分类号：C09K3/14

优先权：["20210524 JP 2021-086958"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2022.11.25#公开

摘要：本发明涉及研磨组合物。包括含有胶态二氧化硅颗粒的胶态二氧化硅、pH调节剂和螯合剂的研磨组合物以低成本和高生产率提供具有高平坦度、低缺陷和低表面粗糙度的表面的基板，并且提供具有高表面品质的基板，适合作为掩模坯料用基板例如含有SiO2作为主要组分的玻璃基板，特别地作为在EUVL中使用的掩模坯料用基板。

主权项：1.研磨组合物，其包含胶态二氧化硅、pH调节剂和螯合剂，所述胶态二氧化硅包含胶态二氧化硅颗粒。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 研磨组合物

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