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【发明公布】针对辐射源的种子激光系统_ASML荷兰有限公司_202180027214.6 

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

申请日:2021-03-10

公开(公告)日:2022-11-25

公开(公告)号:CN115398757A

主分类号:H01S3/23

分类号:H01S3/23;H01S3/223;H01S3/00;H01S3/10

优先权:["20200409 US 63/007,759"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.04.28#实质审查的生效;2022.11.25#公开

摘要:提供了用于激光束沿公共光束路径进行双通道放大的系统、设备和方法。示例方法可以包括生成第一激光束和第二激光束。随后,示例方法可以包括沿公共光束路径,执行第一激光束和第二激光束的双通道放大。在一些方面,第一激光束可以包括第一波长,第二激光束可以包括与第一波长不同的第二波长。

主权项:1.一种辐射源,包括:激光系统,包括:第一激光源,被配置为生成第一激光束;第二激光源,被配置为生成第二激光束;以及双通道放大器,被配置为:沿公共光束路径,执行所述第一激光束的双通道放大;以及沿所述公共光束路径,执行所述第二激光束的双通道放大。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASML荷兰有限公司 针对辐射源的种子激光系统

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