申请/专利权人：三井化学株式会社;国立研究开发法人产业技术综合研究所

申请日：2021-04-02

公开（公告）日：2022-11-25

公开（公告）号：CN115398334A

主分类号：G03F1/62

分类号：G03F1/62;G03F7/20

优先权：["20200417 JP 2020-074343"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.09.26#授权;2022.12.13#实质审查的生效;2022.11.25#公开

摘要：一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。

主权项：1.一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，所述碳纳米管膜含有碳纳米管，所述碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，所述碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将所述碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的所述碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下，＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三井化学株式会社;国立研究开发法人产业技术综合研究所 曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD