申请/专利权人：株式会社日立高新技术

申请日：2021-03-29

公开（公告）日：2022-11-29

公开（公告）号：CN115413309A

主分类号：F15B11/06

分类号：F15B11/06

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.12.16#实质审查的生效;2022.11.29#公开

摘要：气体供给控制装置向处理被加工物的处理室供给气体，该气体供给控制装置具备：与吹扫用气体的气体源连接的第一端口；与处理用气体的气体源连接的第二端口；使从所述第一端口及第二端口供给的所述吹扫用气体和所述处理用气体各自合流地流动的集合配管；设置在所述第一端口与所述集合配管之间的第一流量控制器；以及设置在所述第二端口与所述集合配管之间的第二流量控制器。所述吹扫用气体所流动的气体流路从所述第一流量控制器的输出侧向所述第二流量控制器的输入侧形成。

主权项：1.一种气体供给控制装置，向处理被加工物的处理室供给气体，所述气体供给控制装置的特征在于，具备：第一端口，与吹扫用气体的气体源连接；第二端口，与处理用气体的气体源连接；集合配管，与所述处理室连接，且使从所述第一端口及所述第二端口供给的所述吹扫用气体和所述处理用气体各自合流地流动；第一流量控制器，连接在所述第一端口与所述集合配管之间；第二流量控制器，连接在所述第二端口与所述集合配管之间，所述吹扫用气体所流动的气体流路从所述第一流量控制器的输出侧向所述第二流量控制器的输入侧形成。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社日立高新技术 气体供给控制装置

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