申请/专利权人：美商新思科技有限公司

申请日：2022-05-27

公开（公告）日：2022-11-29

公开（公告）号：CN115409770A

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00;G06T7/13;G06N20/00

优先权：["20210528 US 63/194,801","20220523 US 17/751,549"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.12#实质审查的生效;2022.11.29#公开

摘要：本公开的各实施例涉及使用机器学习模型的大规模复杂光刻。计算光刻工艺使用机器学习模型。首先使用光刻掩模的二维模型来计算由光刻掩模产生的空间图像。将该第一空间图像应用于第一机器学习模型，该第一机器学习模型推断第二空间图像。使用包括使用光刻掩模的更精确的三维模型计算的空间图像的训练集来训练第一机器学习模型。二维模型比三维模型更快地计算，但其更不准确。第一机器学习模型减轻了这种不准确性。

主权项：1.一种方法，包括：接收由光刻掩模产生的第一空间图像，所述第一空间图像是使用所述光刻掩模的二维模型被计算的；以及由第一处理器应用第一机器学习模型以从第一空间图像推断第二空间图像，其中使用训练集来训练所述第一机器学习模型，所述训练集包括使用光刻掩模的三维模型计算的基础真值空间图像。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 美商新思科技有限公司 使用机器学习模型的大规模复杂光刻

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